全譜直讀光譜儀9800L

應(yīng)用領(lǐng)域

全譜直讀光譜儀9800L是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù)生產(chǎn),是目前先進(jìn)的國際認(rèn)為的CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。落地式全譜直讀光譜儀9800L體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。

產(chǎn)品優(yōu)勢

1、先進(jìn)的CCD全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；

2、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同國際光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)一家也能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商；

3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用；

4、升級多基體方便，無須變動(dòng)增加硬件；

5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性；

6、體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便；

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性；

8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。

主要特點(diǎn)

1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；

2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，使儀器用較短的時(shí)間達(dá)到較優(yōu)的分析效果；

3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性較佳；

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

5、自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；

6、開放式的電及架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

7、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除千擾；

8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；

9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；

10、銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能；

11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

12、采用鎢材料電及，電及使用壽命更長，并設(shè)計(jì)了電及自吹掃功能，清潔電及更加容易；

13、高性能DSP及ARM處理器，具有高高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運(yùn)行狀況；

14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗千擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；

15、核心器件全部進(jìn)口，保證了儀器優(yōu)良的品質(zhì)。

技術(shù)參數(shù)

1、光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)：帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度：自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃

波長范圍：160-800nm

光柵焦距：350 mm

光柵刻線：3600 l/mm

Ⅰ級光譜線色散率：1.2 nm/mm

探測器：多塊高性能線陣CCD

平均分辨率：10pm/pixel

2、激發(fā)臺(tái)

氣體：沖氬式

氬氣流量：激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量

電及：鎢材噴射電及技術(shù)

吹掃：點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ)償：熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)

分析間隙：樣品臺(tái)分析間隙：4mm

3、激發(fā)光源

類型：HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

頻率：100-1000Hz

放電電流：1-80A

特殊技術(shù)：放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)

預(yù)燃：高能預(yù)燃技術(shù)

4、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器：高性能ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接口：基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

5、電源與環(huán)境要求

輸入：220VAC 50Hz

功率：分析時(shí)（max）700W，待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度：20-80%

6、尺寸與重量

尺寸：800*450*500 mm

重量：120Kg